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镍基阵列微针的薄胶微电铸制备工艺
微纳技术与精密机械 | 更新时间:2024-09-27
    • 镍基阵列微针的薄胶微电铸制备工艺

    • Preparation of Ni microneedle array using thin photoresist microelectroforming technique

    • 在生物工程领域,研究人员提出了一种新型薄胶微电铸工艺,成功制备出尖端曲率半径为纳米尺度的阵列镍微针,为阵列镍微针的批量化制备奠定了基础。
    • 光学精密工程   2024年32卷第16期 页码:2492-2503
    • DOI:10.37188/OPE.20243216.2492    

      中图分类号: TN205;TN305.7
    • 收稿日期:2024-02-05

      修回日期:2024-03-15

      纸质出版日期:2024-08-25

    移动端阅览

  • 王华安,李晓建,尹鹏和等.镍基阵列微针的薄胶微电铸制备工艺[J].光学精密工程,2024,32(16):2492-2503. DOI: 10.37188/OPE.20243216.2492.

    WANG Huaan,LI Xiaojian,YIN Penghe,et al.Preparation of Ni microneedle array using thin photoresist microelectroforming technique[J].Optics and Precision Engineering,2024,32(16):2492-2503. DOI: 10.37188/OPE.20243216.2492.

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