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反应烧结SiC陶瓷脆性去除特征及刻划力波动行为
微纳技术与精密机械 | 更新时间:2020-07-05
    • 反应烧结SiC陶瓷脆性去除特征及刻划力波动行为

    • Removal characteristics and fluctuation behavior of cutting force during scratch process of RB-SiC ceramics

    • 光学 精密工程   2018年26卷第3期 页码:632-639
    • DOI:10.3788/OPE.20182603.0632    

      中图分类号: P228.5.1
    • 收稿日期:2017-07-05

      录用日期:2017-8-31

      纸质出版日期:2018-03-25

    移动端阅览

  • 李志鹏, 孟彬彬. 反应烧结SiC陶瓷脆性去除特征及刻划力波动行为[J]. 光学 精密工程, 2018,26(3):632-639. DOI: 10.3788/OPE.20182603.0632.

    Zhi-Peng LI, Bin-Bin Meng. Removal characteristics and fluctuation behavior of cutting force during scratch process of RB-SiC ceramics[J]. Optics and precision engineering, 2018, 26(3): 632-639. DOI: 10.3788/OPE.20182603.0632.

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